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日本nasgiken硅晶片氣體蝕刻設備潔凈室裝置

日本nasgiken硅晶片氣體蝕刻設備潔凈室裝置 BEM-310

該設備使用臭氧和HF對硅晶片的整個表面進行體蝕刻。
氣體蝕刻不會在晶圓表面產生水滴。
蝕刻期間晶圓中的污染物不會轉移到其他位置。
這是在潔凈室中使用的獨立式設備。

  • 產品型號:BEM-310
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-10-12
  • 訪  問  量:295
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詳細介紹

日本nasgiken硅晶片氣體蝕刻設備潔凈室裝置 BEM-310 特點介紹


該設備使用臭氧和HF對硅晶片的整個表面進行體蝕刻。

氣體蝕刻不會在晶圓表面產生水滴。

蝕刻期間晶圓中的污染物不會轉移到其他位置。

這是在潔凈室中使用的獨立式設備。

使用單張片材對整個表面進行蝕刻,但也可以通過映射恢復進行部分評估。

晶圓搬運由人工完成,但設備由計算機控制,操作方便。


日本nasgiken硅晶片氣體蝕刻設備潔凈室裝置 BEM-310 規(guī)格參數(shù)


設備名稱 BEM-310 

兼容晶圓尺寸 200毫米、300毫米 

手術 內置電腦 

批量蝕刻功能 ○ 

恢復率能力 ±10%以內 

蝕刻后平整度 ±10%以內 

外形尺寸(寬×深×高)(毫米)(*1) 1000×1300×2000 

重量 約150公斤 

使用設備 酸排放、一般廢氣、酸廢氣 

所需的公用設施 電源(AC100V、200V)、純水、O2、N2、HF 

該設備使用臭氧和HF對硅晶片的整個表面進行體蝕刻。

氣體蝕刻不會在晶圓表面產生水滴。

蝕刻期間晶圓中的污染物不會轉移到其他位置。

這是在潔凈室中使用的獨立式設備。

使用單張片材對整個表面進行蝕刻,但也可以通過映射恢復進行部分評估。

晶圓搬運由人工完成,但設備由計算機控制,操作方便。


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